中国科创板上市公司、半导体设备龙头屹唐股份发布公告，以非法窃取等离子体源及晶圆表面处理内核技术，并在中国境内以专利申请方式揭露为由，将美国应用材料公司（Applied Materials）告上北京知识产权法院，除了要求应材停止侵权行为，并赔偿经济损失9999万（人民币，下同，约1394万美元）。该案件已于8月13日立案受理。
彭博报导，屹唐发布公告称，公司因认为应用材料非法获取并使用了公司的等离子体源，及晶圆表面处理相关的内核技术秘密，还在中国境内以申请专利的方式披露了技术秘密，且将这项专利申请权据为己有，因此向北京知识产权法院提告，提告金额为9999万。
屹唐称，利用高浓度、稳定均匀的等离子体进行晶圆表面处理是公司的关键技术之一，相关技术被广泛应用于公司的干法去胶、干法蚀刻、表面处理及改性等半导体加工设备中。公司在该领域具备领先的原创性技术能力，并拥有相关技术秘密。
屹唐也提到，应用材料招聘了曾在屹唐半导体全资子公司Mattson Technology, Inc.（简称MTI公司）工作的两名涉案员工，而他们了解关于等离子体的产生和处理方法的内核技术，熟悉和掌握相关设备结构以及技术工艺。
在MTI公司任职期间，这两名员工均签署了保密协定，对包括涉案技术秘密在内的技术资讯承担严格的保密义务。
屹唐指出，证据显示，应用材料招聘这两名员工入职后，向中国国家知识产权局提交了一份发明专利申请，其中主要发明人即为前述两名员工，专利申请披露了屹唐半导体与MTI公司共同所有的涉案技术秘密。
屹唐在公告中指出，被告非法获取和使用原告的技术秘密，并在中国境内以申请专利的方式披露了这项技术秘密，将专利申请权据为己有，违反了「反不正当竞争法」的规定，构成侵犯商业秘密的行为，对屹唐的知识产权和经济利益造成严重的损害。
每日经济新闻以投资者身分致电屹唐半导体，公司董秘办人士说，因为法院刚受理了公司的提告请求，开庭审理时间需要等法院进一步通知。
这名人士也说，签署保密协定都是基本的，员工入职一般都要签。「但如果这些员工想要做一些坏事的话，签了保密协议也拦不住他们去做。」
芯片设备技术是中美长期科技战的焦点之一。迄今为止，半导体制造设备领域仍由美国、荷兰和日本主导。多年来，美国主导的行动，阻止陆企获得荷兰供应商ASML最先进的极紫外曝光系统，这类设备是制造最尖端芯片、用于开发人工智能算法所必需。如果没有美国设备供应商，包括应用材料和泛林集团的支持，ASML的技术也无法在芯片制造工厂使用。
虽然屹唐的举动可能被视为中国对美国的反击，但2家公司先前就有纠纷。2022年，应用材料曾起诉MTI公司涉嫌企业间谍行为，MTI公司当时否认所有不当行为指控。
屹唐半导体成立于2015年底，主要从事集成电路制造过程中所需晶圆加工设备的研发、生产和销售，面向全球集成电路制造厂商，提供包括干法去胶设备、快速热处理设备、干法刻蚀设备在内的集成电路制造设备及配套工艺解决方案。公司于今年7月8日在上交所科创板上市。
